X射线光电子能谱仪(XPS)
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X射线光电子能谱/电子光谱化学分析仪(XPS/
X射线光电子能谱(XPS),也称为电子光谱化学分析仪(
XPS的主要应用
- 识别污点或变色
- 清洁度的表征
- 分析粉末和碎片的组成份
- 识别和量化表面变化前后聚合物的功能参数
- 测量硬盘上的润滑剂厚度
- 深度分析
- 测量样品的氧化层厚度
XPS技术性能
信号检测
光电子
元素检测
Li-U及其化合价信息
检测限
0.01 ? 1% (原子百分比)
深度分辨率
20 - 200 Å(深度分析模式)
10 - 100 Å (表面分析)
成像/绘图
是
横向分辨率
10 µm
XPS分析的理想用途
- 有机材料、无机材料、污点、残留物的表面分析
- 测量表面成分及化学状态信息
- 薄膜成份的深度剖析
- 硅氧氮化物厚度及成分分析
- 薄膜氧化物厚度测量(SiO2, Al2O3 等)
XPS分析的相关领域
- 航空航天
- 汽车
- 生物医学
- 半导体
- 数据存储
- 国防
- 显示器
- 电子
- 工业产品
- 照明
- 制药
- 光电子
- 聚合物
- 半导体
- 太阳能光伏发电
- 电信
XPS分析的优势
- 表面元素的化学状态识别
- 除H和He外,可检测其他所有元素
- 定量分析
- 适用于多种材料,包括绝缘样品(纸,塑料、玻璃等)
- 可用于深度分析
- 氧化物厚度测量
XPS分析的局限性
- 检测限通常在~ 0.01 %
- 束斑较大,约为~10 µm
- 有限的具体有机物信息
- 需要超高真空(UHV)环境
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