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X-Ray 荧光分析仪 (XRF)

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X射线荧光分析(XRF)

 

X线荧光分析(XRF) 又称X射线次级发射光谱分析,是利用原级X射线光子激发待测物质中的原子,使之产生次级的特征X射线(X光荧光)而进行物质成分分析和化学态的研究方法。通过测定特征X射线的能量,便可以确定相应元素的存在,而特征X射线的强弱则代表该元素的含量。XRF可以检测从Na-U的所有元素,其检测限度可达到10ppm级别。通过使用适当的参考标准, XRF可以准确的量化固态或液态样品的元素组成。

 

XRF技术性能

检测信号

X-射线

检测元素范围
Na-U

检测限
10 ppm

成像/绘图

横向分辨率/探头尺寸
100 µm

 

XRF分析的应用

·   可测量微米级金属薄膜的厚度

·   高精度和准确性的全晶圆成份像(达300mm的晶圆)

·   未知固相、液相或粉体中的元素分析

·   合金的鉴定

 

XRF分析的相关领域

  • 航空航天
  • 汽车
  • 数据存储
  • 国防
  • 电子
  • 工业产品
  • 照明
  • 聚合物
  • 半导体

 

XRF分析的优势

  • 非破坏性
  • 全晶圆分析(200 300 nm)及晶圆片和小试样
  • 全晶圆成份像
  • 无试样制备要求
  • 分析区域可小至30 µm
  • 能分析液体和固体
  • 探测深度可达10 µm

 

XRF分析的局限性

  • 不能检测比Na轻的元素
  • 对高精度定量分析,要求参考标准类似于测试试样
  • 无剖面成像能力
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